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公司自主研發(fā)新一代的等離子清洗設(shè)備,外觀大方簡潔,質(zhì)量可靠,性能穩(wěn)定,廣泛應用于納米材料學,半導體,微電子,光學,電子學,醫(yī)藥學,環(huán)境學,微流控生物學,LED,石墨烯等不同領(lǐng)域。 主要用于以下實驗:表面清潔、表面活化、鍵合、去膠、金屬還原、簡單刻蝕、器械的消毒、去除表面有機物、疏水實驗、鍍膜
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